化学气相沉积

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拼音huaxue qixiang chenji

外文chemical vapor deposition;

卷名军事技术

利用气相化学反应在基体表面沉积薄膜的材料表面改性技术。其化学反应类型主要有热分解、氢还原、金属还原、氧化、水解、等离子体激发、光和激光激发等。化学气相沉积过程分为四个阶段:反应气体向基体表面扩散,反应气体吸附于基体表面并发生化学反应,在基体表面产生的气相副产物脱离表面,留下的反应产物形成薄膜。化...

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见本卷书页码:364